氢气原位质量法‌是一种利用化学反应去除特定干扰的分析方法  ，特别适用于ICP-MS（电感耦合等离子体质谱仪）分析中的复杂样品 。这种方法通过在反应池中引入氢气（H2）和氧气（O2）等反应气  ，使得分析物或干扰物在反应池中与反应气发生反应  ，生成一个新的质量数的产物离子 。通过这种质量转移或原位质量的方法  ，可以避开原质量数的干扰  ，从而提高分析的准确性和灵敏度 。例如  ，在ICP-MS分析中  ，通过这种方法可以解决一些分析难题  ，如去除干扰元素对目标元素的干扰  ，从而获得更准确的元素分析结果‌ 。

‌氯气原位产品品质法‌的应用不只受到限制ICP-MS分折  ，就要同一这个领域中充分调动注重要能力 。举列  ，在增进氮化铝结硫化锌产品品质的方案中  ，氯气原位刻蚀系统被把他们拿来在MOCVD机械设备中展开气温原位刻蚀  ，借助成型稠密点的洞孔层并挺高位错的湮灭  ，增进概念性层的结硫化锌产品品质 。种方案借助气温原位刻蚀系统  ，在第5次气温概念性层和2次气温概念性层左右成型稠密点的洞孔层  ，借助加快侧向植物生长强度使洞孔不断合并为  ，消减概念性层中的位错导热系数  ，而增进结硫化锌产品品质‌ 。

光电器件能力前沿技术

在半导体行业的行业中   ，一个技艺操作流程中导入的沉淀物污染问题  ，包括应该可能会导致半导元器障碍 。半导体行业电子器件的整体的打造时中使用到好几种电学品  ，比如说过防氧化氢（H2O2）、硝酸（HCl）、磷酸（H2SO4）等  ，实施清理和蚀刻  。

过阳极腐蚀氢 ：算作强阳极腐蚀剂  ，该用于冲洗硅片、的还原光刻

硝酸铵和硝酸混物  ，混物中用蚀刻多晶硅硅和多晶硅磷酸与过氧化的氢的混物可中用晶圆精加工步骤的拆洗硝酸中用洗去硅片漆层的可挥发和五金残存等溶物

由于半导体技术相关材料集成电路芯片安全性能招生指标参数的不间断提升  ，对沉渣残渣的抑制规范也更为要严格  ，用到的生物学品中的痕量的沉渣残渣会干扰结果新产品的安全性能招生指标参数和总产值  。国际金半导体技术相关材料机器设备与相关材料产业群商会 (SEMI) 发布新闻了有关于高纯采血管安全性能招生指标参数招生指标的标准规范, 标准乃至半数以上沉渣残渣事物的分量不可超过 10 ppt 。

于是  ，产生半导体材料元件时  ，是需要对拆洗和蚀刻硅片阶段中利用的电化学药品中的痕量感染物开展常见检测方案  ，都要尽或者地将痕量感染调控在minimum溶液浓度  ，ICP-MS 便是广泛用于的这种检测方案交通工具 。